显影废液的处理方法

发明专利申请公布后的驳回

摘要

本发明的显影废液的处理方法其特征在于测定包含氢氧化四烷基铵水溶液的显影废液中的四烷基铵(TAA)浓度和金属杂质的含量，根据测定的单位TAA的金属杂质的含量，选择精制处理上述显影废液，再生用作上述显影液的氢氧化TAA水溶液的步骤，废弃处理上述显影废液的步骤，或者使用作为显影液未使用的氢氧化TAA水溶液进行稀释后，精制处理稀释的显影废液，再生用作上述显影液的氢氧化TAA水溶液的步骤，各步骤选择的基准设定为单位TAA的金属杂质含量在50ppm。根据该方法，可以长期稳定地精制处理由光致抗蚀剂显影步骤排出的包含氢氧化TAA的显影废液，结果能再生在要求高精度的光致抗蚀剂显影步骤中也可作为显影液循环利用的高纯度的氢氧化TAA水溶液。

基本信息

专利标题：

显影废液的处理方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN101111804A

申请号：

CN200580047345.1

公开（公告）日：

2008-01-23

申请日：

2005-11-29

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

山下喜文大城户始野仲彻

申请人：

株式会社德山

申请人地址：

日本山口县

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司

代理人：

孙秀武

优先权：

CN200580047345.1

主分类号：

G03F7/30

IPC分类号：

G03F7/30 C02F1/46 C02F1/02 H01L21/027