多路显影液显影控制信号监视系统
专利权的终止
摘要
本发明公开了一种多路显影液显影控制信号监视系统，该系统包括：信号采集单元(10)采集电磁阀DEV和NOZZLE输出的驱动电信号，并将该信号输入至信号计数单元(11)；时钟产生及计时处理单元(12)接收T1时间选择单元(13)和信号计数单元(11)输出的信号，并将信号进行计时处理；报警控制及清零单元(14)接收报警数选择单元(15)、信号计数单元(11)和时钟产生及计时处理单元(12)的信号，再经逻辑判断将信号传输给报警部件(16)或自动清零。本发明的多路显影液显影控制信号监视系统在实际生产过程中能及时有效地发现多路显影液设备错选喷头类型、错误地对硅片进行加工的情况，并能及时报警以避免损失。
基本信息
专利标题 ：
多路显影液显影控制信号监视系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1979339A
申请号 ：
CN200510111173.1
公开（公告）日 ：
2007-06-13
申请日 ：
2005-12-06
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
冯骏张鹏谢华
申请人 ：
上海华虹NEC电子有限公司
申请人地址 ：
201206上海市浦东新区川桥路1188号
代理机构 ：
上海浦一知识产权代理有限公司
代理人 ：
丁纪铁
优先权 ：
CN200510111173.1
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 G03F7/00 H01L21/00
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2019-11-22 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20051206
授权公告日 : 20080903
终止日期 : 20181206
申请日 : 20051206
授权公告日 : 20080903
终止日期 : 20181206
2014-01-08 ：
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101684700199
IPC(主分类) : G03F 7/20
专利号 : ZL2005101111731
变更事项 : 专利权人
变更前 : 上海华虹NEC电子有限公司
变更后 : 上海华虹宏力半导体制造有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 201206 上海市浦东新区川桥路1188号
变更后 : 201203 上海市浦东新区张江高科技园区祖冲之路1399号
号牌文件序号 : 101684700199
IPC(主分类) : G03F 7/20
专利号 : ZL2005101111731
变更事项 : 专利权人
变更前 : 上海华虹NEC电子有限公司
变更后 : 上海华虹宏力半导体制造有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 201206 上海市浦东新区川桥路1188号
变更后 : 201203 上海市浦东新区张江高科技园区祖冲之路1399号
2008-09-03 ：
授权
2007-08-08 ：
实质审查的生效
2007-06-13 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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