具有侧壁磁体的感应等离子体系统

专利权的终止

摘要

一种衬底处理系统具有限定处理室的壳体。衬底夹持器放置在处理室内并被配置来在衬底处理期间支撑衬底平面内的衬底。气体传输系统被配置来将气体引入到处理室内。压力控制系统维持处理室内的选定压力。高密度等离子体生成系统与处理室可操作的耦合。具有磁偶极子的磁约束环沿垂直于衬底平面的对称轴呈圆周形放置，并且提供了具有基本不平行于衬底平面的净偶极矩的磁场。控制器控制气体传输系统、压强控制系统和高密度等离子体系统。

基本信息

专利标题：

具有侧壁磁体的感应等离子体系统

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1818132A

申请号：

CN200610003273.7

公开（公告）日：

2006-08-16

申请日：

2006-02-08

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

陆思青梁起威赖灿风杰森·博洛金埃利·Y·易

申请人：

应用材料公司

申请人地址：

美国加利福尼亚州

代理机构：

北京东方亿思知识产权代理有限责任公司

代理人：

赵飞

优先权：

CN200610003273.7

主分类号：

C23C16/513

IPC分类号：

C23C16/513 C23C16/52 C23C16/54 H01L21/365

IPC结构图谱

C部——化学；冶金

C23

对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制

C23C

对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆

C23C16/00

通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺

C23C16/44

以镀覆方法为特征的

C23C16/50

借助放电的

C23C16/513

采用等离子流

法律状态

2013-03-27 ：

专利权的终止

未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101426318987
IPC(主分类) : C23C 16/513
专利号 : ZL2006100032737
申请日 : 20060208
授权公告日 : 20091202
终止日期 : 20120208

2009-12-02 ：

授权

2006-10-11 ：

实质审查的生效

2006-08-16 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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