一种纳米氮化硅抛光组合物及其制备方法
专利权的终止
摘要
本发明涉及一种用于抛光高硬度材料的纳米氮化硅抛光组合物,它的组份和重量百分比含量为,1%~8%的表面改性的纳米氮化硅、0.1%~1.0%钛酸酯偶联剂、0.1%~2%的季戊四醇硬脂酸酯、0.1%~1%的甘油单十六烷酸酯、余量为基础油。本发明还涉及这种纳米氮化硅抛光组合物的制备方法。采用本发明的纳米氮化硅抛光组合物使被抛光的材料表面达到超镜面的光洁度,而且在抛光过程中没有杂质或污染物污染被抛光的材料表面。本发明的制备工艺简单。
基本信息
专利标题 :
一种纳米氮化硅抛光组合物及其制备方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1817997A
申请号 :
CN200610033127.9
公开(公告)日 :
2006-08-16
申请日 :
2006-01-24
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
张新明魏庆华卢业玉张道宏
申请人 :
张新明
申请人地址 :
510070广东省广州市先烈中路81号大院32栋118号1405房
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN200610033127.9
主分类号 :
C09G1/02
IPC分类号 :
C09G1/02
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C09
染料;涂料;抛光剂;天然树脂;黏合剂;其他类目不包含的组合物;其他类目不包含的材料的应用
C09G
抛光组合物;滑雪屐蜡
C09G1/00
抛光组合物
C09G1/02
含有磨料或研磨剂
法律状态
2012-06-13 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101262310635
IPC(主分类) : C09G 1/02
专利号 : ZL2006100331279
申请日 : 20060124
授权公告日 : 20071226
终止日期 : 20110124
号牌文件序号 : 101262310635
IPC(主分类) : C09G 1/02
专利号 : ZL2006100331279
申请日 : 20060124
授权公告日 : 20071226
终止日期 : 20110124
2011-12-21 :
文件的公告送达
号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101242707609
IPC(主分类) : C09G 1/02
专利号 : ZL2006100331279
专利申请号 : 2006100331279
收件人 : 张新明
文件名称 : 专利权终止通知书
号牌文件序号 : 101242707609
IPC(主分类) : C09G 1/02
专利号 : ZL2006100331279
专利申请号 : 2006100331279
收件人 : 张新明
文件名称 : 专利权终止通知书
2007-12-26 :
授权
2006-10-11 :
实质审查的生效
2006-08-16 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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