抛光组合物
授权
摘要
本发明提供一种对衬底进行抛光的方法，包括以下步骤：提供具有至少一个金属层的衬底；使所述衬底接触组合物，以及用所述组合物对所述衬底进行化学机械抛光，其中所述组合物包含：磨料；包含磷酸酯/盐的第一表面活性剂；包含炔属化合物的第二表面活性剂；配位剂；至少一种唑；和水。所述组合物在与已知的CMP组合物相比降低的凹陷减少剂(DR)水平下实现了最小限度的凹陷。本公开的组合物包含允许组合物中凹陷减少剂水平较低的动态表面张力降低剂(DSTR)。实际上，本公开的组合物允许较低水平的凹陷减少剂实现与具有较高水平的凹陷减少剂的已知组合物相同的凹陷。因此当采用本公开的组合物时，避免了高DR水平的有害作用或使其最小化。
基本信息
专利标题 ：
抛光组合物
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN112760041A
申请号 ：
CN202110010441.X
公开（公告）日 ：
2021-05-07
申请日 ：
2017-12-29
授权号 ：
CN112760041B
授权日 ：
2022-05-31
发明人 ：
詹姆斯·麦克多诺
申请人 ：
富士胶片电子材料美国有限公司
申请人地址 ：
美国罗得岛州
代理机构 ：
北京集佳知识产权代理有限公司
代理人 ：
蔡胜有
优先权 ：
CN202110010441.X
主分类号 ：
C09G1/02
IPC分类号 ：
C09G1/02 C23F3/04 H01L21/306
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C09
染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用
C09G
抛光组合物；滑雪屐蜡
C09G1/00
抛光组合物
C09G1/02
含有磨料或研磨剂
法律状态
2022-05-31 ：
授权
2021-05-25 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C09G 1/02
申请日 : 20171229
申请日 : 20171229
2021-05-07 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
