抛光组合物及其使用方法
实质审查的生效
摘要
本公开提供化学机械抛光组合物及用于以高移除速率抛光多晶硅膜的方法。所述组合物包括1)磨料；2)至少一种结构(I)的化合物；3)至少一种结构(II)的化合物；及4)水；其中，所述组合物不包括氢氧化四甲基铵或其盐。结构(I)及(II)中的变量n、R1‑R7、X、Y及Z1‑Z3在本专利说明书中进行定义。这些化学机械抛光组合物中的结构(I)与(II)的化合物的协同效应导致在抛光期间高的多晶硅膜材料移除速率。
基本信息
专利标题 ：
抛光组合物及其使用方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114456717A
申请号 ：
CN202210053475.1
公开（公告）日 ：
2022-05-10
申请日 ：
2018-03-27
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
A·P·列昂诺夫A·米什拉
申请人 ：
富士胶片电子材料美国有限公司
申请人地址 ：
美国罗得岛州
代理机构 ：
北京博思佳知识产权代理有限公司
代理人 ：
韩果
优先权 ：
CN202210053475.1
主分类号 ：
C09G1/02
IPC分类号 ：
C09G1/02 H01L21/306 H01L21/321
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C09
染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用
C09G
抛光组合物；滑雪屐蜡
C09G1/00
抛光组合物
C09G1/02
含有磨料或研磨剂
法律状态
2022-05-27 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C09G 1/02
申请日 : 20180327
申请日 : 20180327
2022-05-10 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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