抛光组合物及其使用方法
授权
摘要
本公开涉及一种抛光组合物，包括至少一种磨料；至少一种氮化物去除率降低剂；酸或碱；以及水。所述至少一种氮化物去除率降低剂可包括疏水部分和亲水部分，其中所述疏水部分含有C12至C40烃基团并且通过0至10个环氧烷基团与亲水部分分开。所述抛光组合物可具有约2至约6.5的pH，并且当抛光包括覆盖有至少硅氧化物的至少氮化硅图案的图案化晶圆时，具有至少3:1的硅氧化物的去除率比氮化硅的去除率的比值。
基本信息
专利标题 ：
抛光组合物及其使用方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111334193A
申请号 ：
CN201910812800.6
公开（公告）日 ：
2020-06-26
申请日 ：
2019-08-30
授权号 ：
CN111334193B
授权日 ：
2022-05-24
发明人 ：
C·巴列斯特罗斯A·米什拉E·特纳
申请人 ：
富士胶片电子材料美国有限公司
申请人地址 ：
美国罗得岛州
代理机构 ：
北京博思佳知识产权代理有限公司
代理人 ：
韩果
优先权 ：
CN201910812800.6
主分类号 ：
C09G1/02
IPC分类号 ：
C09G1/02 H01L21/306
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C09
染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用
C09G
抛光组合物；滑雪屐蜡
C09G1/00
抛光组合物
C09G1/02
含有磨料或研磨剂
法律状态
2022-05-24 ：
授权
2020-07-21 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C09G 1/02
申请日 : 20190830
申请日 : 20190830
2020-06-26 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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