抛光组合物
专利权的终止
摘要
一种抛光组合物，它含有胶态二氧化硅、氢氧化钾、碳酸氢钾、和水，其抛光组合物中胶态二氧化硅的含量为2mass％或更多。抛光组合物中含有的胶态二氧化硅二次粒子的平均颗粒尺寸为60nm或更小。该抛光组合物适用于抛光半导体基板。
基本信息
专利标题 ：
抛光组合物
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1766028A
申请号 ：
CN200510118816.5
公开（公告）日 ：
2006-05-03
申请日 ：
2005-10-28
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
上村泰英
申请人 ：
福吉米株式会社
申请人地址 ：
日本国爱知县
代理机构 ：
上海市华诚律师事务所
代理人 ：
徐申民
优先权 ：
CN200510118816.5
主分类号 ：
C09K3/14
IPC分类号 ：
C09K3/14 H01L21/304
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C09
染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用
C09K
不包含在其他类目中的各种应用材料；不包含在其他类目中的材料的各种应用
C09K3/00
不包含在其他类目中的材料
C09K3/14
防滑材料；研磨材料
法律状态
2015-12-16 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101637736979
IPC(主分类) : C09K 3/14
专利号 : ZL2005101188165
申请日 : 20051028
授权公告日 : 20100616
终止日期 : 20141028
号牌文件序号 : 101637736979
IPC(主分类) : C09K 3/14
专利号 : ZL2005101188165
申请日 : 20051028
授权公告日 : 20100616
终止日期 : 20141028
2010-06-16 ：
授权
2007-11-07 ：
实质审查的生效
2006-05-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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