抛光组合物以及使用该抛光组合物的抛光方法
专利权的终止
摘要
一种抛光组合物，其包含：研磨剂如胶态二氧化硅、选自咪唑和咪唑衍生物中的至少一种化合物、以及水。该抛光组合物优选进一步包含碱性化合物、水溶性聚合物、或螯合剂。该抛光组合物适用于抛光如半导体基板等物体的边缘。
基本信息
专利标题 ：
抛光组合物以及使用该抛光组合物的抛光方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1760307A
申请号 ：
CN200510113455.5
公开（公告）日 ：
2006-04-19
申请日 ：
2005-10-14
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
高见信一郎
申请人 ：
福吉米株式会社
申请人地址 ：
日本国爱知县
代理机构 ：
上海市华诚律师事务所
代理人 ：
徐申民
优先权 ：
CN200510113455.5
主分类号 ：
C09K3/14
IPC分类号 ：
C09K3/14 H01L21/304
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C09
染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用
C09K
不包含在其他类目中的各种应用材料；不包含在其他类目中的材料的各种应用
C09K3/00
不包含在其他类目中的材料
C09K3/14
防滑材料；研磨材料
法律状态
2013-12-04 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101547739362
IPC(主分类) : C09K 3/14
专利号 : ZL2005101134555
申请日 : 20051014
授权公告日 : 20120215
终止日期 : 20121014
号牌文件序号 : 101547739362
IPC(主分类) : C09K 3/14
专利号 : ZL2005101134555
申请日 : 20051014
授权公告日 : 20120215
终止日期 : 20121014
2012-02-15 ：
授权
2007-11-21 ：
实质审查的生效
2006-04-19 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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