抛光组合物及其使用方法
公开
摘要
本公开涉及抛光组合物，所述抛光组合物包含至少一种磨料；至少一种氮化物去除速率降低剂、酸或碱；和水。至少一种氮化物去除速率降低剂可以包括含有C4至C40烃基的疏水部分、以及含有至少一种选自由亚硫酸基、硫酸基、磺酸基、羧基、磷酸基和膦酸基组成的组的基团的亲水部分；其中疏水部分和亲水部分由0至10个环氧烷基团隔开。该抛光组合物可具有约2至约6.5的pH。
基本信息
专利标题 ：
抛光组合物及其使用方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114437634A
申请号 ：
CN202111314980.9
公开（公告）日 ：
2022-05-06
申请日 ：
2021-11-08
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
E·特纳A·米什拉C·巴列斯特罗斯
申请人 ：
富士胶片电子材料美国有限公司
申请人地址 ：
美国罗得岛州
代理机构 ：
北京博思佳知识产权代理有限公司
代理人 ：
韩果
优先权 ：
CN202111314980.9
主分类号 ：
C09G1/02
IPC分类号 ：
C09G1/02 H01L21/3105
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C09
染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用
C09G
抛光组合物；滑雪屐蜡
C09G1/00
抛光组合物
C09G1/02
含有磨料或研磨剂
法律状态
2022-05-06 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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