介质薄膜微波复介电常数的测量装置
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要

本发明涉及一种厚度在微米量级的介质薄膜之微波复介电常数的测量装置,它包括谐振腔、网络分析仪和介质基片,其特征在于所述谐振腔的两端设有射频耦合器,其中部设有通孔,所述介质基片用来承载介质薄膜,可插入所述通孔并两端处在谐振腔外,所述网络分析仪的输入、输出端分别与所述谐振腔的两个耦合器相连接;由于本发明在谐振腔的中部开有通孔,故能将未镀介质薄膜的介质基片和镀完介质薄膜的介质基片分别插入所述谐振腔的通孔中,获得两组谐振频率及品质因数值,进而根据所获得的两组数据再结合谐振腔、介质基片以及介质薄膜的几何尺寸,推算出介质薄膜的复介电常数,包括复介电常数的实部和损耗角正切,因此本发明是全面、精确的介质薄膜微波复介电常数的测量装置之一。

基本信息
专利标题 :
介质薄膜微波复介电常数的测量装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1834667A
申请号 :
CN200610049653.4
公开(公告)日 :
2006-09-20
申请日 :
2006-03-01
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
王德苗金浩董树荣谢银芳
申请人 :
浙江大学
申请人地址 :
310027浙江省杭州市西湖区浙大路38号
代理机构 :
杭州君易知识产权代理事务所
代理人 :
陈向群
优先权 :
CN200610049653.4
主分类号 :
G01R27/26
IPC分类号 :
G01R27/26  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01R
测量电变量;测量磁变量
G01R27/00
测量电阻、电抗、阻抗或其派生特性的装置
G01R27/02
电阻、电抗、阻抗或其派生的其他两端特性,例如时间常数的实值或复值测量
G01R27/26
电感或电容的测量;品质因数的测量,例如通过应用谐振法;损失因数的测量;介电常数的测量
法律状态
2008-11-26 :
发明专利申请公布后的视为撤回
2006-11-22 :
实质审查的生效
2006-09-20 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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