制备具有低介电常数的介孔薄膜的方法

发明专利申请公布后的视为撤回

摘要

本发明公开一种制备低介电常数的介孔薄膜的方法，它包括混合环状硅氧烷类单体、有机溶剂、酸催化剂或碱催化剂和水，来制备涂覆溶液，然后将该涂覆溶液施涂在基片上并热固化。本发明的介孔薄膜显示出包括硬度和弹性模量的优异物理性能，并具有2.5或更低的低介电常数，因此，容易用于制造半导体。

基本信息

专利标题：

制备具有低介电常数的介孔薄膜的方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1824691A

申请号：

CN200510119169.X

公开（公告）日：

2006-08-30

申请日：

2005-11-24

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

宣钟白申铉振郑铉潭金知晚

申请人：

三星康宁株式会社

申请人地址：

韩国京畿道

代理机构：

北京市柳沈律师事务所

代理人：

封新琴

优先权：

CN200510119169.X

主分类号：

C08J5/18

IPC分类号：

C08J5/18 B05D5/02 C08L83/04

IPC结构图谱

C部——化学；冶金

C08

有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物

C08J

加工；配料的一般工艺过程；不包括在C08B，C08C，C08F，C08G或C08H小类中的后处理

C08J5/00

含有高分子物质的制品或成形材料的制造

C08J5/18

薄膜或片材的制造

法律状态

2010-07-21 ：

发明专利申请公布后的视为撤回

号牌文件类型代码 : 1603
号牌文件序号 : 101003373255
IPC(主分类) : C08J 5/18
专利申请号 : 200510119169X
公开日 : 20060830

2008-07-09 ：

专利申请权、专利权的转移(专利申请权的转移)

变更事项 : 申请人
变更前权利人 : 三星康宁株式会社
变更后权利人 : 三星康宁精密琉璃株式会社
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 韩国京畿道
变更后权利人 : 韩国庆尚北道龟尾市
登记生效日 : 20080613

2007-12-05 ：

实质审查的生效

2006-08-30 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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1、

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