一种液晶显示器阵列基板的像素结构及其制造方法
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摘要

本发明公开了一种液晶显示器阵列基板的像素结构,包括玻璃基板,形成于玻璃基板上的栅线,栅电极,数据线,源电极,漏电极,掺杂层,有源层,第一绝缘层,第二绝缘层,透明像素电极,钝化层,其特征在于:透明像素电极和栅线、栅电极之间有横向的隔断槽;透明像素电极和数据线、源电极之间有纵向的隔断槽。本发明同时也公开了制造该像素结构的方法。本发明适用于TFT的4mask工艺中有ITO直接沉积在源、漏电极上,并进行钝化层刻蚀的工艺中。在不增加现有工艺和设计成本的基础上,本发明可以提高生产的成品率,同时降低产品修复的数目,从而降低生产成本。

基本信息
专利标题 :
一种液晶显示器阵列基板的像素结构及其制造方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN101034215A
申请号 :
CN200610057243.4
公开(公告)日 :
2007-09-12
申请日 :
2006-03-09
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
邱海军王章涛陈旭闵泰烨
申请人 :
京东方科技集团股份有限公司
申请人地址 :
100016北京市朝阳区酒仙桥路10号
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN200610057243.4
主分类号 :
G02F1/133
IPC分类号 :
G02F1/133  G02F1/136  G03F7/20  H01L21/027  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如转换、选通、调制或解调,上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的;用于上述操作的技术或工艺;变频;非线性光学;光学逻辑元件;光学模拟/数字转换器
G02F1/00
控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如,转换、选通或调制;非线性光学
G02F1/01
对强度、相位、偏振或颜色的控制
G02F1/13
基于液晶的,例如单位液晶显示单元
G02F1/133
构造上的设备;液晶单元的工作;电路装置
法律状态
2009-01-28 :
授权
2008-01-23 :
实质审查的生效
2007-12-05 :
专利申请权、专利权的转移专利申请权的转移
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 北京市朝阳区酒仙桥路10号
变更后权利人 : 北京经济技术开发区西环中路8号
变更事项 : 共同申请人
变更前权利人 : 无
变更后权利人 : 京东方科技集团股份有限公司
登记生效日 : 20071019
变更事项 : 申请人
变更前权利人 : 京东方科技集团股份有限公司
变更后权利人 : 北京京东方光电科技有限公司
2007-09-12 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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