用于除去杂质的清洗液组合物及除去杂质的方法
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
本发明提供一种清洗液组合物以及使用该组合物除去杂质的方法，其适于将残留在用于形成电子电路的基板及用于形成上述电子电路的制造装置的部件上的杂质除去。上述清洗液组合物包括：含有4～50重量％的从柠檬酸、柠檬酸盐、氟化物盐、氟酸、双氧水及过硫酸铵所构成的群组中所选择的二个化合物，以及剩余量的水(H2O)。具有此类成分的清洗液组合物，适用于除去在形成电子电路的基板表面上所残留杂质的工序，可使构成该杂质的物质再次附着于基板上等的污染最小化。
基本信息
专利标题 ：
用于除去杂质的清洗液组合物及除去杂质的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101029288A
申请号 ：
CN200610058259.7
公开（公告）日 ：
2007-09-05
申请日 ：
2006-02-28
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
李起桢
申请人 ：
李起元
申请人地址 ：
韩国京畿道
代理机构 ：
北京连和连知识产权代理有限公司
代理人 ：
姜兆元
优先权 ：
CN200610058259.7
主分类号 ：
C11D7/26
IPC分类号 ：
C11D7/26 H01L21/304
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C11
动物或植物油、脂、脂肪物质或蜡；由此制取的脂肪酸；洗涤剂；蜡烛
C11D
洗涤剂组合物；用单一物质作为洗涤剂；皂或制皂；树脂皂；甘油的回收
C11D7/00
主要以非表面活性化合物为基料的洗涤剂组合物
C11D7/22
有机化合物
C11D7/26
含氧的
法律状态
2010-03-24 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
2007-10-31 ：
实质审查的生效
2007-09-05 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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