一种用于碳化硅半导体制程中的清洗液组合物
公开
摘要
本发明公开了一种用于碳化硅半导体制程中的清洗液组合物，所述清洗液组合物组成包括羟胺和/或其盐和/或其衍生物、有机酸和/或有机酸盐、去离子水，各组分所占清洗液的质量百分比为：羟胺和/或其盐和/或其衍生物0.1‑30wt%、有机酸和/或有机酸盐0.05‑20wt%，余量为去离子水，所述清洗液组合物的pH值＜7。本发明的清洗液组合物的原料组分简单，其可有效去除残留在设备表面、研磨垫表面及SiC晶圆表面上的污染物、痕量金属离子和研磨粒子，同时不会腐蚀接触的表面。
基本信息
专利标题 ：
一种用于碳化硅半导体制程中的清洗液组合物
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114574297A
申请号 ：
CN202210231035.0
公开（公告）日 ：
2022-06-03
申请日 ：
2022-03-09
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
孙秀岩金徽
申请人 ：
张家港安储科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市张家港市保税区新兴产业育成中心A幢525室（安储）
代理机构 ：
苏州启华专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
徐伟华
优先权 ：
CN202210231035.0
主分类号 ：
C11D7/06
IPC分类号 ：
C11D7/06 C11D7/04 C11D7/10 C11D7/26 C11D7/32 C11D7/34 C11D7/60
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C11
动物或植物油、脂、脂肪物质或蜡；由此制取的脂肪酸；洗涤剂；蜡烛
C11D
洗涤剂组合物；用单一物质作为洗涤剂；皂或制皂；树脂皂；甘油的回收
C11D7/00
主要以非表面活性化合物为基料的洗涤剂组合物
C11D7/02
无机化合物
C11D7/04
水溶性化合物
C11D7/06
氢氧化物
法律状态
2022-06-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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