可双源引出的辐照装置
专利权的终止
摘要

本实用新型涉及一种辐射加工领域的辐照装置。本实用新型可双源引出的辐照装置包括电子直线加速器、通过法兰安装在电子直线加速器上的扫描盒,在扫描盒上设有扫描磁铁、靶和钛窗,钛窗位于靶的左侧或右侧,扫描盒上设有用于冷却靶和钛窗的冷却水路。本实用新型积极效果是:本实用新型集成了现有的电子束引出式辐照装置和X射线引出式辐照装置的功能于一体,当扫描磁铁工作时,加速器辐照装置引出电子束流;当扫描磁铁不工作时,则引出X射线。即可以引出电子束和X射线两种辐照源,以满足不同体积的辐照物品对象的加工要求。利用本实用新型可以在几乎不增加成本的情况下扩大应用范围,同时提高了系统的安全性能,有利于提高辐照系统的寿命和利用率。

基本信息
专利标题 :
可双源引出的辐照装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200620123928.X
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2006-07-17
授权号 :
CN200953681Y
授权日 :
2007-09-26
发明人 :
刘耀红唐华平阎忻水高建军高峰张东生梁笑天魏德刘晋升贾玮印炜张丹谷冲张庆辉
申请人 :
清华同方威视技术股份有限公司;清华大学
申请人地址 :
100084北京市海淀区双清路同方大厦A座二层
代理机构 :
北京路浩知识产权代理有限公司
代理人 :
司君智
优先权 :
CN200620123928.X
主分类号 :
H05G1/00
IPC分类号 :
H05G1/00  
法律状态
2016-08-24 :
专利权的终止
专利权有效期届满号牌文件类型代码 : 1611
号牌文件序号 : 101676314276
IPC(主分类) : H05G 1/00
专利号 : ZL200620123928X
申请日 : 20060717
授权公告日 : 20070926
终止日期 : 无
2008-01-02 :
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 清华同方威视技术股份有限公司
变更后权利人 : 同方威视技术股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 北京市海淀区双清路同方大厦A座二层,邮编 : 100084
变更后权利人 : 北京市海淀区双清路同方大厦A座二层,邮编 : 100084
变更事项 : 共同专利权人
变更前权利人 : 清华大学
变更后权利人 : 清华大学
2007-09-26 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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