可同时进行辐射成像检查和放射性物质监测的系统

专利权的终止

摘要

本实用新型涉及辐射成像检查和放射性物质监测技术领域，本实用新型提供一种可同时进行辐射成像检查和放射性物质监测的系统，该系统包括辐射成像检查子系统和放射性物质监测子系统；其中辐射成像检查子系统包括加速器和同步控制器，所述放射性物质监测子系统包括探测器及前端电路、信号传输与处理装置、数据采集分析处理计算机、报警装置等部分。本实用新型将辐射成像检查设备和放射性物质监测设备紧凑集成、可在进行射线辐射成像检查的同时完成放射性物质监测，提高了检查的效率并降低了设备的占地面积。

基本信息

专利标题：

可同时进行辐射成像检查和放射性物质监测的系统

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN200620172882.0

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2006-12-30

授权号：

CN201043956Y

授权日：

2008-04-02

发明人：

王小兵贺宇赵崑张清军彭华

申请人：

同方威视技术股份有限公司清华大学

申请人地址：

100084北京市海淀区双清路同方大厦A座二层

代理机构：

北京路浩知识产权代理有限公司

代理人：

刘长威

优先权：

CN200620172882.0

主分类号：

G01N23/04

IPC分类号：

G01N23/04 G01T1/00