选择性金属敷镀形成的布线图案
专利权的终止
摘要
使用形成结构(心轴)的图案并且激活该结构的侧壁的方法形成导电侧壁间隔物结构。金属离子被附着于该结构的侧壁上并且该金属离子被还原以形成种子材料。该结构接着被修整并且种子材料被敷镀以在该结构的侧壁上形成布线。
基本信息
专利标题 ：
选择性金属敷镀形成的布线图案
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101103459A
申请号 ：
CN200680001918.1
公开（公告）日 ：
2008-01-09
申请日 ：
2006-01-10
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
古川俊治马克·C.·哈克史蒂文·J.·福尔摩斯大卫·V.·霍拉克查尔斯·W.·考伯格三世
申请人 ：
国际商业机器公司
申请人地址 ：
美国纽约
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人 ：
杜娟
优先权 ：
CN200680001918.1
主分类号 ：
H01L23/48
IPC分类号 ：
H01L23/48
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L23/00
半导体或其他固态器件的零部件
H01L23/48
用于向或自处于工作中的固态物体通电的装置，例如引线或接线端装置
法律状态
2013-03-20 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101412117602
IPC(主分类) : H01L 23/48
专利号 : ZL2006800019181
申请日 : 20060110
授权公告日 : 20090805
终止日期 : 20120110
号牌文件序号 : 101412117602
IPC(主分类) : H01L 23/48
专利号 : ZL2006800019181
申请日 : 20060110
授权公告日 : 20090805
终止日期 : 20120110
2009-08-05 ：
授权
2008-02-27 ：
实质审查的生效
2008-01-09 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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