铜蚀刻液再生循环装置

避免重复授权放弃专利权

摘要

本实用新型公开了一种铜蚀刻液再生循环装置，属于废蚀刻液的处理技术领域，本实用新型包括废蚀刻液铜分离循环机构、氨水洗废液铜分离循环机构、反萃循环机构、电解提铜循环机构；废蚀刻液经过废蚀刻液铜分离循环机构后再经组分调配可供蚀刻机循环使用；氨水洗废液经过氨水洗废液铜分离循环机构后可供蚀刻机循环使用；铜萃取剂经过反萃循环机构可进入废蚀刻液铜分离循环机构和氨水洗废液铜分离循环机构中循环使用；反萃剂经过电解提铜循环机构可再进入反萃循环机构中循环使用，电解提铜循环机构中产生的电解铜可以作为商品出售，创造利润；电积后剩余液稍加调配可以返回反萃循环中循环机构使用。

基本信息

专利标题：

铜蚀刻液再生循环装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN200720048070.X

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2007-01-31

授权号：

CN201003069Y

授权日：

2008-01-09

发明人：

何剑波

申请人：

何剑波

申请人地址：

529080湖南省株洲市荷塘区红旗村20栋302号

代理机构：

广州市南锋专利事务所有限公司

代理人：

刘媖

优先权：

CN200720048070.X

主分类号：

C23F1/08

IPC分类号：

C23F1/08 C23F1/46