用于测量轻元素的光路结构

专利权的终止

摘要

一种用于测量轻元素的光路结构，在样品盒下方连接测量支架，测量支架侧下方有正对样品盒内待测试样台的X射线出口，测量支架正下方有次级滤光片支架，次级滤光片支架下是正比计数管的铍窗。正比计数管连接前置放大器。正比计数管外有金属屏蔽盒。正比计数管连接正比计数管电源本实用新型特点是探测器(正比计数管)完全屏蔽。加入次级滤光片。可以较大提高测量轻元素的精度。

基本信息

专利标题：

用于测量轻元素的光路结构

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN200720096483.5

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2007-06-22

授权号：

CN201047831Y

授权日：

2008-04-16

发明人：

张磊

申请人：

天津市博智伟业科技有限公司

申请人地址：

300384天津市华苑产业区鑫茂财智领地9－B－701

代理机构：

天津盛理知识产权代理有限公司

代理人：

王融生

优先权：

CN200720096483.5

主分类号：

G01N23/223

IPC分类号：

G01N23/223

IPC结构图谱

G部——物理

G01

测量；测试

G01N

借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料

G01N23/00

利用波或粒子辐射来测试或分析材料，例如未包括在G01N3/00-G01N17/00、G01N 21/00 或G01N 22/00中的X射线或中子

G01N23/22

通过测量材料的二次发射

G01N23/223

通过用X射线或γ射线辐照样品以及测量X射线荧光

法律状态

2012-08-29 ：

专利权的终止

未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101317516685
IPC(主分类) : G01N 23/223
专利号 : ZL2007200964835
申请日 : 20070622
授权公告日 : 20080416
终止日期 : 20110622

2008-04-16 ：

授权

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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