湿法浸入式设备的药液处理槽
专利权的终止
摘要

本实用新型公开了一种湿法浸入式设备的药液处理槽,包括处理槽、聚氯乙烯外槽和循环外槽,处理槽通过支架支撑于聚氯乙烯外槽内,处理槽与聚氯乙烯外槽之间设置有循环外槽,处理槽内的底部设置有硅片支架,其中处理槽盛装有药液,聚氯乙烯外槽内盛有纯水,循环外槽内盛有药液;其中:所述处理槽的沿硅片排列方向的截面的底面形状为圆弧形。本实用新型将原有的矩形处理槽改进为底面为圆弧形的处理槽,能够在不影响硅片处理的情况下,最大限度地减小处理槽内药液的体积,从而节省药液的用量,降低生产成本;同时去除了容易产生结晶物的死角,从而避免在处理槽底部角落内产生结晶物,使结晶物不容易生成,改善工艺品质。

基本信息
专利标题 :
湿法浸入式设备的药液处理槽
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200720144271.X
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2007-10-26
授权号 :
CN201117639Y
授权日 :
2008-09-17
发明人 :
张弢邹建祥
申请人 :
上海华虹NEC电子有限公司
申请人地址 :
201206上海市浦东新区川桥路1188号
代理机构 :
上海浦一知识产权代理有限公司
代理人 :
蔡光亮
优先权 :
CN200720144271.X
主分类号 :
H01L21/00
IPC分类号 :
H01L21/00  H01L21/306  C23F1/08  B08B3/08  
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
法律状态
2016-12-14 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101692409233
IPC(主分类) : H01L 21/00
专利号 : ZL200720144271X
申请日 : 20071026
授权公告日 : 20080917
终止日期 : 20151026
2014-01-29 :
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101688292071
IPC(主分类) : H01L 21/00
专利号 : ZL200720144271X
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 上海华虹NEC电子有限公司
变更后权利人 : 上海华虹宏力半导体制造有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 201206 上海市浦东新区川桥路1188号
变更后权利人 : 201203 上海市浦东新区张江高科技园区祖冲之路1399号
登记生效日 : 20140103
2008-09-17 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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