一种光平面投射装置
专利权的终止
摘要

本实用新型涉及一种光平面投射装置,该装置包括折光镜、半透半反镜、柱面镜、激光模组,所述折光镜设置在激光模组的出射光路上;所述半透半反镜的一面与柱面镜的圆周面相切、另一面设置在折光镜的出射光路上;所述柱面镜设置在半透半反镜的透射光路上。本实用新型减少了投射激光参考面的过程中的活动部分,提高了校准的精度,结构简单,具有很好的环境适应性,操作简单,易于实现;光路中所选用的原材料都属于成熟产品,成本低廉,工艺简单。

基本信息
专利标题 :
一种光平面投射装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200820028839.6
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2008-04-14
授权号 :
CN201188146Y
授权日 :
2009-01-28
发明人 :
孙文辉包艳玲
申请人 :
西安华科光电有限公司
申请人地址 :
710075陕西省西安市高新区锦业路67号
代理机构 :
西安智邦专利商标代理有限公司
代理人 :
商宇科
优先权 :
CN200820028839.6
主分类号 :
G02B17/08
IPC分类号 :
G02B17/08  G02B1/10  G02B7/02  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B17/00
有或无折射元件的具有反射面的系统
G02B17/08
折反射系统
法律状态
2016-06-01 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止终止日期 : 20150414
号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101663508966
IPC(主分类) : G02B 17/08
专利号 : ZL2008200288396
申请日 : 20080414
授权公告日 : 20090128
2009-01-28 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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