基于方形高次模腔体的基片集成波导多模滤波器
专利权的终止
摘要

基于方形高次模腔体的基片集成波导多模滤波器的介质基片(1)上表面和下表面分别敷有上表面金属(7)和下表面金属(8),金属化通孔阵列(2)贯穿于介质基片(1)、上表面金属(7)和下表面金属(8);起调节不同模式的本征频率以及模式间的耦合作用的第一感性柱(3)和第二感性柱(4)位于金属化通孔阵列(2)围成的方形腔体内部;方形腔体相邻的两条边上分别设有第一金属柱感性窗(7)、第二金属柱感性窗(8),腔体通过金属柱感性窗实现能量的输入和输出耦合;第一金属化通孔阵列(5)和第二金属化通孔阵列(6)分别位于第一金属柱感性窗(7)、第二金属柱感性窗(8),对应于滤波器腔体的输入和输出,它们和外部电路相连接。

基本信息
专利标题 :
基于方形高次模腔体的基片集成波导多模滤波器
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200820030758.X
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2008-01-11
授权号 :
CN201178126Y
授权日 :
2009-01-07
发明人 :
董元旦洪伟
申请人 :
东南大学
申请人地址 :
210096江苏省南京市四牌楼2号
代理机构 :
南京经纬专利商标代理有限公司
代理人 :
叶连生
优先权 :
CN200820030758.X
主分类号 :
H01P1/207
IPC分类号 :
H01P1/207  H01P1/20  H01P5/08  
法律状态
2015-03-11 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101600377513
IPC(主分类) : H01P 1/207
专利号 : ZL200820030758X
申请日 : 20080111
授权公告日 : 20090107
终止日期 : 20140111
2009-01-07 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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