测量光学非线性的4f相位相干成像装置
专利权的终止
摘要

本实用新型公开了一种测量光学非线性的4f相位相干成像装置,主要由入射光路、测量光路和参考光路构成,所述入射光路包括扩束系统、相位光阑和分束镜,入射激光束由分束镜分成两束,一束为探测光进入测量光路,通过4f系统后由CCD相机采集;另一束为参考光,进入参考光路,其特征在于:所述测量光路的4f系统为反射4f相位相干成像系统,待测样品以反射位放置在第一凸透镜的焦平面上,反射光经第二凸透镜照射在CCD相机上;参考光路与测量光路的出射光照射在同一个CCD相机上。本实用新型光路简单、测量方便、没有样品的移动,采用单脉冲测量、不易损伤介质的表面、对光源能量稳定性以及空间的稳定性要求不高。

基本信息
专利标题 :
测量光学非线性的4f相位相干成像装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200820038280.5
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2008-06-17
授权号 :
CN201247199Y
授权日 :
2009-05-27
发明人 :
宋瑛林杨俊义李云波顾济华王玉晓
申请人 :
苏州大学
申请人地址 :
215123江苏省苏州市苏州工业园区仁爱路199号
代理机构 :
苏州创元专利商标事务所有限公司
代理人 :
陶海锋
优先权 :
CN200820038280.5
主分类号 :
G01N21/45
IPC分类号 :
G01N21/45  G01N21/17  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段,即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/17
入射光根据所测试的材料性质而改变的系统
G01N21/41
折射率;影响相位的性质,例如光程长度
G01N21/45
利用干涉量度法,利用纹影方法
法律状态
2013-08-07 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101504722987
IPC(主分类) : G01N 21/45
专利号 : ZL2008200382805
申请日 : 20080617
授权公告日 : 20090527
终止日期 : 20120617
2009-05-27 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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