一种扫描电子显微镜原位电学测量装置
其他有关事项(避免重复授权放弃专利权)
摘要
本实用新型涉及一种在扫描电子显微镜中对待测微型元件进行电学测量的装置，具体为一种扫描电子显微镜原位电学测量装置，属于纳米材料性能原位测量领域。包括有支撑部分和电路部分，所述的支撑部分为绝缘衬底(1)，所述的电路部分包括两个固定在绝缘衬底(1)上的电极(2)、待测元件(4)和相变材料非晶薄膜(5)；所述的相变材料非晶薄膜均匀分布在两金属电极之间，待测元件位于相变材料非晶薄膜中或者集成在金属电极上。本实用新型中的连线具有可擦写的特点，通过电极两端加较高电压，或者直接对载网进行一定的激光脉冲辐照，使相变材料薄膜完全非晶化，使已经形成的电流通路消失实现了测量电路的可选择性，可反复擦写性。
基本信息
专利标题 ：
一种扫描电子显微镜原位电学测量装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN200820078605.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2008-01-18
授权号 ：
CN201149574Y
授权日 ：
2008-11-12
发明人 ：
张泽王珂刘攀韩晓东
申请人 ：
北京工业大学
申请人地址 ：
100022北京市朝阳区平乐园100号
代理机构 ：
北京思海天达知识产权代理有限公司
代理人 ：
张慧
优先权 ：
CN200820078605.2
主分类号 ：
G01N13/10
IPC分类号 ：
G01N13/10
法律状态
2010-03-03 ：
其他有关事项(避免重复授权放弃专利权)
放弃生效日 : 2008118
2008-11-12 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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