一种基于自适应区域投射的单像素成像方法
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摘要

一种基于自适应区域投射的单像素成像方法,用于提高单像素成像的速度。该方法首先利用条纹投射器向物体投射横向和纵向正弦条纹,获得所需的场景图像的二维傅立叶系数;然后由傅立叶切片原理,得到场景图像在图像域中横纵坐标轴上的投影;接着使用边缘提取算法,确定物体区域在场景中的尺寸和位置;最后对物体所在区域进行单像素成像,重建物体图像。该方法可以根据物体区域的大小自动调节成像区域的位置和大小,进而减少成像时间,在成像质量不变的情况下大幅提高成像速度。

基本信息
专利标题 :
一种基于自适应区域投射的单像素成像方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN109087348A
申请号 :
CN201710445901.5
公开(公告)日 :
2018-12-25
申请日 :
2017-06-14
授权号 :
CN109087348B
授权日 :
2022-04-29
发明人 :
姜宏志赵慧洁朱曙光刘颢
申请人 :
北京航空航天大学
申请人地址 :
北京市海淀区学院路37号
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN201710445901.5
主分类号 :
G06T7/521
IPC分类号 :
G06T7/521  G06T17/00  G01B11/00  G01B11/24  G01B11/25  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G06
计算;推算或计数
G06T
一般的图像数据处理或产生
G06T7/10
分割;边缘检测
G06T7/50
深度或形状恢复
G06T7/521
从激光测距,例如使用干涉测量;从结构化图像的投影图
法律状态
2022-04-29 :
授权
2019-01-18 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G06T 7/521
申请日 : 20170614
2018-12-25 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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