过滤装置及过滤在半导体制造中使用的流体的方法
授权
摘要
本公开提供一种过滤装置，包括一壳体、一过滤元件、及一电场产生单元。壳体具有一入口及一出口，其中入口允许一流体流入壳体，而出口允许流体流出壳体。过滤元件设置于入口与出口之间，用以通过一吸附方式过滤流过过滤元件之流体中的杂质。电场产生单元配置用以产生一电场，使得前述杂质沿着电场的方向移动至过滤元件上。
基本信息
专利标题 ：
过滤装置及过滤在半导体制造中使用的流体的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110215759A
申请号 ：
CN201810174853.5
公开（公告）日 ：
2019-09-10
申请日 ：
2018-03-02
授权号 ：
CN110215759B
授权日 ：
2022-05-03
发明人 ：
王建惟张庆裕赖韦翰林进祥
申请人 ：
台湾积体电路制造股份有限公司
申请人地址 ：
中国台湾新竹市
代理机构 ：
隆天知识产权代理有限公司
代理人 ：
冯志云
优先权 ：
CN201810174853.5
主分类号 ：
B01D35/06
IPC分类号 ：
B01D35/06 B01D35/00 B01D36/00 B01D15/10 B01D46/00 B01D46/42 B01D51/00
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B01
一般的物理或化学的方法或装置
B01D35/00
具有不专门包括在B01D24/00至B01D33/00组中的特征或应用的过滤装置；用于过滤的辅助装置；过滤器外壳结构
B01D35/06
利用电或磁的过滤器
法律状态
2022-05-03 ：
授权
2019-10-08 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : B01D 35/06
申请日 : 20180302
申请日 : 20180302
2019-09-10 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
