一种石墨烯薄膜的制备方法及含有石墨烯薄膜的装置
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摘要
本发明公开了一种石墨烯薄膜的制备方法及含有石墨烯薄膜的装置，该制备方法包括：在金属基底上形成钝化层；在钝化层上形成孔洞，使得通过孔洞漏出金属基底；在露出金属基底的孔洞上形成石墨烯薄膜，并且石墨烯薄膜覆盖钝化层。通过在金属基底表面覆盖一层钝化层，然后在钝化层上形成孔洞，实现了对金属基底的选择性钝化处理，使得金属基底具有催化能力的区域面积和数量可控，从而使得石墨烯薄膜的生长速度可控。
基本信息
专利标题 ：
一种石墨烯薄膜的制备方法及含有石墨烯薄膜的装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110629188A
申请号 ：
CN201810663151.3
公开（公告）日 ：
2019-12-31
申请日 ：
2018-06-25
授权号 ：
CN110629188B
授权日 ：
2022-04-15
发明人 ：
田小让何延如赵冠超李立伟孟原郭铁
申请人 ：
新奥光伏能源有限公司
申请人地址 ：
河北省廊坊市廊坊经济技术开发区华祥路106号
代理机构 ：
北京同达信恒知识产权代理有限公司
代理人 ：
黄志华
优先权 ：
CN201810663151.3
主分类号 ：
C23C16/26
IPC分类号 ：
C23C16/26 C23C16/04 C23C16/513 C01B32/186
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IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/22
以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C16/26
仅沉积碳
法律状态
2022-04-15 ：
授权
2020-01-24 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 16/26
申请日 : 20180625
申请日 : 20180625
2019-12-31 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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