一种高附着耐蚀刻光敏树脂组合物
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摘要
本发明公开了一种高附着耐蚀刻光敏树脂组合物，所述光敏树脂组合物主要由45‑70wt％重均分子量在50,000‑150,000的碱可溶性共聚物树脂、15‑45wt％的烯属光聚合性不饱和单体、1‑10wt％的光聚合引发剂及0.5‑5wt％添加剂组成，其中，所述碱可溶性聚合物树脂由含有双六元环刚性结构的环烯类酸酐、(甲基)丙烯酸和丙烯酸酯类化合物自由基聚合而成。包含上述碱可溶性聚合物树脂的光敏树脂组合物具备高附着性能、良好的解析度与耐蚀刻性能，有效地减少了蚀刻工艺中断路现象的发生，在PCB生产过程中大大提升了良率与效率。
基本信息
专利标题 ：
一种高附着耐蚀刻光敏树脂组合物
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN109828436A
申请号 ：
CN201910267870.8
公开（公告）日 ：
2019-05-31
申请日 ：
2019-04-03
授权号 ：
CN109828436B
授权日 ：
2022-05-31
发明人 ：
朱薛妍李伟杰李志强周光大
申请人 ：
浙江福斯特新材料研究院有限公司
申请人地址 ：
浙江省杭州市临安市青山湖街道大园路1235号
代理机构 ：
杭州求是专利事务所有限公司
代理人 ：
邱启旺
优先权 ：
CN201910267870.8
主分类号 ：
G03F7/027
IPC分类号 ：
G03F7/027
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
G03F7/027
具有碳—碳双键的非高分子的可光聚合的化合物，例如，乙烯化合物
法律状态
2022-05-31 ：
授权
2022-05-06 ：
专利申请权、专利权的转移
专利申请权的转移IPC(主分类) : G03F 7/027
登记生效日 : 20220425
变更事项 : 申请人
变更前权利人 : 浙江福斯特新材料研究院有限公司
变更后权利人 : 杭州福斯特电子材料有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 311305 浙江省杭州市临安市青山湖街道大园路1235号
变更后权利人 : 311300 浙江省杭州市临安区锦北街道福斯特街8号1幢212
登记生效日 : 20220425
变更事项 : 申请人
变更前权利人 : 浙江福斯特新材料研究院有限公司
变更后权利人 : 杭州福斯特电子材料有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 311305 浙江省杭州市临安市青山湖街道大园路1235号
变更后权利人 : 311300 浙江省杭州市临安区锦北街道福斯特街8号1幢212
2019-06-25 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/027
申请日 : 20190403
申请日 : 20190403
2019-05-31 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
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