可碱溶负性光敏聚酰亚胺树脂组合物
授权
摘要
本发明适用于材料技术领域，提供了一种可碱溶负性光敏聚酰亚胺树脂组合物，该组合物包括如下按质量份数计的组分：30份～60份可碱溶负性光敏聚酰亚胺共聚物，1.5份～15份丙烯酸酯系单体，1份～4份光引发剂，90份～220份有机溶剂以及0.05份～0.3份表面活性剂；所述可碱溶负性光敏聚酰亚胺共聚物的结构式如式1所示，其中：x＝5～80，R为带羧基及不饱和双键的链段，其中A1为带乙硫基的含氟芳香族二胺单元，A2为二苯酮二酐单元，A3为主链含查尔酮基团的二酐单元，A4为含螺环的二胺单元。本发明具有高光敏性和分辨率，同时经过曝光后，非曝光区可以用无机碱溶液显影，可广泛应用于航空航天等领域。
基本信息
专利标题 ：
可碱溶负性光敏聚酰亚胺树脂组合物
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN109814336A
申请号 ：
CN201910053285.8
公开（公告）日 ：
2019-05-28
申请日 ：
2019-01-21
授权号 ：
CN109814336B
授权日 ：
2022-05-17
发明人 ：
黄珍荣王胜林
申请人 ：
深圳市道尔顿电子材料有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市光明新区光明街道招商局光明科技园B3栋4C单元
代理机构 ：
深圳盛德大业知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
贾振勇
优先权 ：
CN201910053285.8
主分类号 ：
G03F7/038
IPC分类号 ：
G03F7/038
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
G03F7/038
高分子化合物被制备成不溶解的或非均匀可湿的
法律状态
2022-05-17 ：
授权
2019-06-21 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/038
申请日 : 20190121
申请日 : 20190121
2019-05-28 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN109814336A.PDF
PDF下载
