一种产生并行超分辨焦斑的方法和装置
授权
摘要
本发明公开了一种产生并行超分辨焦斑的方法，具体为：使用空间光调制器将激光器发出的激发光调制为多焦点的高斯光斑；激光器发出的耗尽光经过偏振分束器和方向垂直的两个光栅分成四束耗尽光，并在物镜后焦面干涉生成多焦点的空心光斑；多焦点空心耗尽光抑制多焦点高斯激发光外圈激发的荧光分子发出荧光，从而并行地获得远小于衍射极限的有效荧光信号进行显微成像和激光直写光刻。本发明还公开一种产生并行超分辨焦斑的装置。本发明能够实现超高速和超高分辨率的受激发射损耗显微成像和激光直写光刻加工。
基本信息
专利标题 ：
一种产生并行超分辨焦斑的方法和装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110632045A
申请号 ：
CN201910855174.9
公开（公告）日 ：
2019-12-31
申请日 ：
2019-09-10
授权号 ：
CN110632045B
授权日 ：
2022-05-20
发明人 ：
匡翠方陈宇宸刘旭郝翔李海峰
申请人 ：
之江实验室;浙江大学
申请人地址 ：
浙江省杭州市文一西路1818号
代理机构 ：
杭州天勤知识产权代理有限公司
代理人 ：
米志鹏
优先权 ：
CN201910855174.9
主分类号 ：
G01N21/64
IPC分类号 ：
G01N21/64 G01N21/21 G02B27/58
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段，即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/62
所测试的材料在其中被激发，因之引起材料发光或入射光的波长发生变化的系统
G01N21/63
光学激发的
G01N21/64
荧光；磷光
法律状态
2022-05-20 ：
授权
2020-01-24 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01N 21/64
申请日 : 20190910
申请日 : 20190910
2019-12-31 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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