一种用于透射电镜切片样品和切片转移装置的制备方法
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摘要
本发明属于透射电子显微镜技术领域，公开了一种用于透射电镜切片样品和切片转移装置的制备方法，包括以下步骤：(1)样品头粗修；(2)精修；(3)切片前准备；(4)超薄切片(厚度通常小于50nm)；(5)样品转移至加热芯片加热区。本发明主要用于透射电镜超薄切片样品的制备，解决了透射电镜原位加热过程中样品定点转移至芯片加热区域困难的问题。
基本信息
专利标题 ：
一种用于透射电镜切片样品和切片转移装置的制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110702717A
申请号 ：
CN201910975698.1
公开（公告）日 ：
2020-01-17
申请日 ：
2019-10-15
授权号 ：
CN110702717B
授权日 ：
2022-05-10
发明人 ：
张斌赵晓伟孙家豪董天汭王卓陈曦周小元
申请人 ：
重庆大学
申请人地址 ：
重庆市沙坪坝区沙正街174号
代理机构 ：
重庆市信立达专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
陈炳萍
优先权 ：
CN201910975698.1
主分类号 ：
G01N23/2202
IPC分类号 ：
G01N23/2202 G01N23/2204 G01N1/28 G01N23/22 G01N23/04
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N23/00
利用波或粒子辐射来测试或分析材料，例如未包括在G01N3/00-G01N17/00、G01N 21/00 或G01N 22/00中的X射线或中子
G01N23/22
通过测量材料的二次发射
G01N23/2202
样品制备
法律状态
2022-05-10 ：
授权
2020-02-18 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01N 23/2202
申请日 : 20191015
申请日 : 20191015
2020-01-17 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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