基于深度学习的无透镜双型融合目标检测装置及方法
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摘要

本发明公开了基于深度学习的无透镜双型融合目标检测装置及方法,装置包括双型融合全息无透镜成像模块和神经网络模块,所述双型融合全息无透镜成像模块包括激光源,微孔,滤光片,第一反射镜,第二反射镜,第一相干光源、第二相干光源,目标样本及载玻片,第一CCD传感器、第二CCD传感器,计算机和移动滑轨,神经网络模块包括位置参数优化神经网络和目标检测区域卷积神经网络组成,双型融合无透镜成像模块同时获取透射型模块和反射型模块成像信息,并最终融合重建更高质量的成像结果,同时由神经网络不断优化位置参数,进一步优化成像结果,最后由目标检测区域卷积神经网络预测结果,并输出易懂、显性的评估结果。

基本信息
专利标题 :
基于深度学习的无透镜双型融合目标检测装置及方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN110927115A
申请号 :
CN201911254429.2
公开(公告)日 :
2020-03-27
申请日 :
2019-12-09
授权号 :
CN110927115B
授权日 :
2022-05-13
发明人 :
赵巨峰吴小辉崔光茫毛海锋林君张钰臧月
申请人 :
杭州电子科技大学
申请人地址 :
浙江省杭州市下沙高教园区2号大街
代理机构 :
杭州浙科专利事务所(普通合伙)
代理人 :
孙孟辉
优先权 :
CN201911254429.2
主分类号 :
G01N21/45
IPC分类号 :
G01N21/45  G01B11/24  G06N3/04  G06N3/08  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段,即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/17
入射光根据所测试的材料性质而改变的系统
G01N21/41
折射率;影响相位的性质,例如光程长度
G01N21/45
利用干涉量度法,利用纹影方法
法律状态
2022-05-13 :
授权
2020-04-21 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01N 21/45
申请日 : 20191209
2020-03-27 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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