磁性位置测定系统和方法

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摘要

本公开涉及磁性位置测定系统和方法。提供用于确定磁体的位置的系统和方法。该系统和方法利用位于第一传感器位置并被布置为测量由磁体产生的磁场的至少两个分量的第一传感器，位于第二传感器位置并被布置为测量由磁体产生的磁场的至少两个分量的第二传感器、以及可操作地连接到第一和第二传感器以接收从第一和第二传感器输出的信号衍生的信号的处理电路。从第一场维度的第一微分场和正交于第一场维度的第二场维度的第二微分场来计算场角。基于由第一和第二传感器输出的信号来计算第一和第二微分场。

基本信息

专利标题：

磁性位置测定系统和方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN111322937A

申请号：

CN201911278499.1

公开（公告）日：

2020-06-23

申请日：

2019-12-13

授权号：

CN111322937B

授权日：

2022-04-19

发明人：

J·施密特

申请人：

亚德诺半导体国际无限责任公司

申请人地址：

爱尔兰利默里克

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所

代理人：

郭万方

优先权：

CN201911278499.1

主分类号：

G01B7/00

IPC分类号：

G01B7/00