位置测定方法
实质审查的生效
摘要
一种装置中的位置测定方法，该装置具有拍摄部和检测拍摄部的位置的位置检测部，该装置使用拍摄测定点时的位置检测部的检测值对测定点在特定坐标系中的位置坐标进行测定，该位置测定方法更准确地校正位置检测部的检测值。通过装置取得二维地配置有指标部(22)的校正板(20)中的指标部(22)在特定坐标系中的位置坐标作为实测值，取得将预先由其他装置取得的指标部(22)相对于校正板(20)的基准的位置坐标变换为特定坐标系中的位置坐标而得到的真值与实测值的差分作为校正值，使用校正值对位置检测部(8、9、10)的检测值进行校正，拍摄部(3)按照规定的路径对测定对象(3)中的多个测定点(P)进行拍摄，由此测定多个测定点(P)的位置坐标，与所述路径相关联地取得校正值。
基本信息
专利标题 ：
位置测定方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114556045A
申请号 ：
CN202080073157.0
公开（公告）日 ：
2022-05-27
申请日 ：
2020-03-10
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
林信吾松山晃久
申请人 ：
欧姆龙株式会社
申请人地址 ：
日本国京都府京都市
代理机构 ：
北京三友知识产权代理有限公司
代理人 ：
方冬梅
优先权 ：
CN202080073157.0
主分类号 ：
G01B11/00
IPC分类号 ：
G01B11/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量；角度的计量；面积的计量；不规则的表面或轮廓的计量
G01B11/00
以采用光学方法为特征的计量设备
法律状态
2022-06-14 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01B 11/00
申请日 : 20200310
申请日 : 20200310
2022-05-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
