在薄膜上生成微纳米多孔结构的设备
授权
摘要
本实用新型涉及SLIPS材料制备领域，尤其涉及一种在薄膜上生成微纳米多孔结构的设备。其中设备包括：滚筒，其具有空腔，在所述空腔内设置有磁性元件；输送机构用于将薄膜输送到滚筒；加热器，其设置于滚筒外侧；以及颗粒轰击装置，其设置于滚筒外侧，用于在磁场作用下，向所述滚筒上的薄膜以超音速喷射微纳米颗粒；其中，所述加热器和颗粒轰击装置沿所述薄膜的输送路径依次设置，所述磁性元件用于向所述颗粒轰击装置与所述滚筒外表面之间的区域提供磁场。本实用新型能在薄膜表面形成呈自然形态分布的微纳米多孔结构。
基本信息
专利标题 ：
在薄膜上生成微纳米多孔结构的设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920570946.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-04-24
授权号 ：
CN210026291U
授权日 ：
2020-02-07
发明人 ：
郭四平周永俊
申请人 ：
常州三提新材料有限公司
申请人地址 ：
江苏省常州市武进国家高新技术产业开发区创新园区11号厂房
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201920570946.X
主分类号 ：
B29C59/16
IPC分类号 ：
B29C59/16 B65H23/26 B82Y40/00 B29L7/00
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B29
塑料的加工；一般处于塑性状态物质的加工
B29C
塑料的成型连接；塑性状态材或料的成型，不包含在其他类目中的；已成型产品的后处理，例如修整
B29C59/00
表面成型，如压花；所用的设备
B29C59/16
用波动能量或粒子辐射
法律状态
2020-02-07 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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