一种带吸收片的中子束窗
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摘要

本实用新型公开一种带吸收片的中子束窗,包括高真空腔体、低真空腔体和可调式吸收片组件,高真空腔体与低真空腔体之间设有薄壁曲面窗体;高真空腔体和低真空腔体的相接处,高真空腔体带有第一法兰,低真空腔体带有第二法兰,第一法兰和第二法兰之间通过第一快卸链条固定连接;低真空腔体内设有至少一组可调式吸收片组件,可调式吸收片组件的下端设置吸收片;低真空腔体的顶面设有通孔,可调式吸收片组件下端的吸收片从通孔处伸入至低真空腔体内部;通孔处,低真空腔体带有第四法兰,可调式吸收片组件上设有第三法兰,第四法兰和第三法兰之间通过第二快卸链条固定连接。本带吸收片的中子束窗使用灵活、可实现快速装卸、便于设备维护。

基本信息
专利标题 :
一种带吸收片的中子束窗
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201920739926.0
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-05-22
授权号 :
CN209880178U
授权日 :
2019-12-31
发明人 :
宁常军敬罕涛于永积唐靖宇康玲黄蔚玲朱东辉聂小军刘磊王广源张俊嵩贺华艳陈佳鑫余洁冰王安鑫
申请人 :
中国科学院高能物理研究所
申请人地址 :
北京市石景山区玉泉路19号(乙)院
代理机构 :
广州市华学知识产权代理有限公司
代理人 :
谢静娜
优先权 :
CN201920739926.0
主分类号 :
G21G4/02
IPC分类号 :
G21G4/02  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G21
核物理;核工程
G21G
化学元素的转变;放射源
G21G4/00
放射源
G21G4/02
中子源
法律状态
2019-12-31 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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