一种可用于曝光机的LED列阵排列模块

著录事项变更

摘要

本实用新型公开了一种可用于曝光机的LED列阵排列模块，包括电路板，所述电路板平行固定在感光膜载体的下方，所述电路板一端面间隔排列有A组灯和B组灯，所述A组灯和所述B组灯均由若干相同的LED灯珠横向直线排列组成，所述LED灯珠位于其相邻组的两相邻所述LED灯珠的中垂线上，所述B组灯的灯珠数量比所述A组灯的灯珠数量多1个。与现有技术相比，本实用新型通过LED灯珠的掠影角度来构建阵列模块，形成发光均匀的集合光源模块，曝光效果稳定，且该模块化结构，可方便地按照需要曝光的面积尺寸进行组合，使用方便且适用范围较广等有益效果。

基本信息

专利标题：

一种可用于曝光机的LED列阵排列模块

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201920762340.6

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-05-25

授权号：

CN209879253U

授权日：

2019-12-31

发明人：

余光辉

申请人：

中山市汉斯威尔机械有限公司

申请人地址：

广东省中山市大涌镇旗北村环镇路叠石路段子壮围街13号

代理机构：

重庆创新专利商标代理有限公司

代理人：

彭启龙

优先权：

CN201920762340.6

主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

G03F7/20

IPC结构图谱

G部——物理

G03

摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术

G03F

图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备

G03F7/00

图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备

G03F7/20

曝光及其设备

法律状态

2020-04-28 ：

著录事项变更

IPC(主分类) : G03F 7/20
变更事项 : 发明人
变更前 : 余光辉
变更后 : 余兴辉

2019-12-31 ：

授权

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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