一种太阳能电池减反射膜结构
授权
摘要
本实用新型提供一种太阳能电池减反射膜结构，涉及太阳能电池技术领域。该减反射膜结构包括依次形成在太阳能电池的硅基底上的第一膜层和第二膜层，第一膜层为氮化硅层，第二膜层为碳氧化硅层，第一膜层的厚度在50nm至70nm的范围内，第二膜层的厚度在10nm至30nm的范围内。本实用新型采用由氮化硅层和碳氧化硅层构成的双层减反射介质膜，通过优化膜层厚度，可以降低太阳能电池对波长500nm以下入射光的反射以及提升在800nm以上长波段的光谱响应，从而提高了电池效率。
基本信息
专利标题 ：
一种太阳能电池减反射膜结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920819048.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-06-02
授权号 ：
CN209880624U
授权日 ：
2019-12-31
发明人 ：
苗凤秀连维飞李怡洁魏青竹倪志春
申请人 ：
苏州腾晖光伏技术有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市常熟市沙家浜镇常昆工业园区腾晖路1号
代理机构 ：
苏州华博知识产权代理有限公司
代理人 ：
黄丽莉
优先权 ：
CN201920819048.3
主分类号 ：
H01L31/0216
IPC分类号 ：
H01L31/0216 H01L31/068
法律状态
2019-12-31 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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