一种超硬耐磨减反射膜结构
授权
摘要
本实用新型涉及触摸屏盖板减反射膜技术领域，公开了一种超硬耐磨减反射膜结构，包括在基板上依次层叠的第一氮氧化硅层、氮化硅层及第二氮氧化硅层，所述第一氮氧化硅层的厚度为20～150nm，所述氮化硅层的厚度为20～150nm，所述第二氮氧化硅层的厚度为80～120nm。本实用新型的减反射膜通过采用三层折射率不同的氮氧化硅层及氮化硅层来实现减反射，结合氮氧化硅及氮化硅的高硬度特性，提高透光率的同时，大大增加了减反射膜的硬度，经久耐磨，使用寿命长。
基本信息
专利标题 ：
一种超硬耐磨减反射膜结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020566981.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-04-16
授权号 ：
CN211856955U
授权日 ：
2020-11-03
发明人 ：
王立新
申请人 ：
普发玻璃（深圳）有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市坪山新区坑梓街道老坑社区松子坑水库路6号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202020566981.7
主分类号 ：
G02B1/115
IPC分类号 ：
G02B1/115 G02B1/14
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B1/00
按制造材料区分的光学元件；用于光学元件的光学涂层
G02B1/10
对光学元件表面涂覆或对它进行表面处理后所产生的光学涂层
G02B1/11
抗反射涂层
G02B1/113
仅使用无机材料
G02B1/115
多层
法律状态
2020-11-03 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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