一种光学镜片减反射膜及其制备方法
公开
摘要
本发明公开了一种光学镜片减反射膜，光学镜片减反射膜从镜片基材的表面到外依次设有第一层YF3膜层、第二层ZnS膜层、第三层YF3膜层和第四层ZnS膜层，第一层YF3膜层的厚度为1200‑1400nm，第二层ZnS膜层的厚度为750‑850nm，第三层YF3膜层的厚度为1200‑1400nm，第四层ZnS膜层的厚度为750‑850nm。本发明在基片上真空蒸镀的减反射膜具备极好的光学性能，其透过率高于市场上的减反射膜；通过本发明减反射膜制备方法制备的减反射膜，其透过率高于常规制备方法制备的减反射膜。
基本信息
专利标题 ：
一种光学镜片减反射膜及其制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114609703A
申请号 ：
CN202210277654.3
公开（公告）日 ：
2022-06-10
申请日 ：
2022-03-21
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
丁磊
申请人 ：
苏州镭云海创光电科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市吴中区木渎镇尧峰路65号13号厂房四层
代理机构 ：
苏州汇诚汇智专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
庄米雪
优先权 ：
CN202210277654.3
主分类号 ：
G02B1/115
IPC分类号 ：
G02B1/115 C23C14/02 C23C14/06 C23C14/32 C23C14/54
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B1/00
按制造材料区分的光学元件；用于光学元件的光学涂层
G02B1/10
对光学元件表面涂覆或对它进行表面处理后所产生的光学涂层
G02B1/11
抗反射涂层
G02B1/113
仅使用无机材料
G02B1/115
多层
法律状态
2022-06-10 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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