一种超低折射率SiO2减反射膜的制...
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摘要
本发明公开了一种超低折射率SiO2减反射膜的制备方法,所述制备方法为:先制备得到酸催化的SiO2溶胶A,然后将酸催化的SiO2溶胶A除酸后作为原料与碱催化溶胶原料一起制备复合SiO2溶胶B,最后将复合SiO2溶胶B通过浸渍提拉法制得SiO2薄膜。本发明的制备方法工艺简单、可操作性强、反应速度快,由于制得的SiO2减反射膜中有酸催化SiO2纳米颗粒的存在,使得到的SiO2减反射膜相比于现有的SiO2减反射膜,机械性能更好,且透光率高,反应过程中无需引入任何有机硅烷或是对薄膜进行后处理即可得到超低折射率的SiO2薄膜。
基本信息
专利标题 :
一种超低折射率SiO2减反射膜的制备方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN109665720A
申请号 :
CN201811577518.6
公开(公告)日 :
2019-04-23
申请日 :
2018-12-21
授权号 :
CN109665720B
授权日 :
2022-05-03
发明人 :
陶朝友张林邹鑫书
申请人 :
中国工程物理研究院激光聚变研究中心
申请人地址 :
四川省绵阳市游仙区科学城919信箱987分箱
代理机构 :
南京苏高专利商标事务所(普通合伙)
代理人 :
李倩
优先权 :
CN201811577518.6
主分类号 :
C03C17/25
IPC分类号 :
C03C17/25 H01L21/02
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C03
玻璃;矿棉或渣棉
C03C
玻璃、釉或搪瓷釉的化学成分;玻璃的表面处理;由玻璃、矿物或矿渣制成的纤维或细丝的表面处理;玻璃与玻璃或与其他材料的接合
C03C17/00
纤维或丝之外玻璃,例如微晶玻璃的涂覆法表面处理
C03C17/22
用其他的无机材料
C03C17/23
氧化物
C03C17/25
采用从液相沉积
法律状态
2022-05-03 :
授权
2019-05-17 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C03C 17/25
申请日 : 20181221
申请日 : 20181221
2019-04-23 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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