一种直流磁控溅射高熵合金薄膜铣刀挂架
专利权的终止
摘要
本实用新型公开了一种直流磁控溅射高熵合金薄膜铣刀挂架,包括有支撑柱、放置架组件,所述放置架组件包括套在支撑柱上的放置盘、滑动套设在支撑柱上的滑动套、一端铰接在滑动套上的连杆;放置盘侧面沿径向延伸有承载臂,承载臂上滑动连接有放置环,连杆的另一端铰接在放置环上;承载臂上安装驱动放置环向支撑柱一侧移动的复位弹簧,承载臂与放置盘的连接端设置有向上凸起的限制台;滑动套位于放置盘的下方,支撑柱上开设有销孔,销孔内插装有限制滑动套下移的限位销。本实用新型能够自动将挂架上的所有铣刀均与放置结构一次性脱离,因此有利于提高自动化程度及安全性能。
基本信息
专利标题 :
一种直流磁控溅射高熵合金薄膜铣刀挂架
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201920938120.4
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-06-18
授权号 :
CN210261968U
授权日 :
2020-04-07
发明人 :
万松峰刘炽华王康丁佳伟
申请人 :
东莞职业技术学院
申请人地址 :
广东省东莞市松山湖科技产业园大学路3号
代理机构 :
广州嘉权专利商标事务所有限公司
代理人 :
赵东明
优先权 :
CN201920938120.4
主分类号 :
C23C14/35
IPC分类号 :
C23C14/35 C23C14/50
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的,例如磁控溅射
法律状态
2022-06-07 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : C23C 14/35
申请日 : 20190618
授权公告日 : 20200407
终止日期 : 20210618
申请日 : 20190618
授权公告日 : 20200407
终止日期 : 20210618
2020-04-07 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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