一种用于化学机械抛光的承载头及化学机械抛光设备
授权
摘要
本实用新型涉及化学机械抛光后处理技术领域，公开了一种用于化学机械抛光的承载头及化学机械抛光设备，包括连轴盘、平衡架、承载盘、柔性膜、环状压盘，所述平衡架的中轴部可滑动地设置于连轴盘的中心通孔内并通过其底盘部及翼缘部带动承载盘相对于连轴盘上下移动，所述柔性膜的一部分被环状压盘夹紧至承载盘下部以形成可调压腔室，所述平衡架的一部分由非金属材料制成。
基本信息
专利标题 ：
一种用于化学机械抛光的承载头及化学机械抛光设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920944204.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-06-21
授权号 ：
CN210550371U
授权日 ：
2020-05-19
发明人 ：
赵德文
申请人 ：
清华大学
申请人地址 ：
北京市海淀区清华园1号
代理机构 ：
北京华进京联知识产权代理有限公司
代理人 ：
魏朋
优先权 ：
CN201920944204.9
主分类号 ：
B24B37/12
IPC分类号 ：
B24B37/12 B24B37/14 B24B41/04 B24B37/013 B24B49/10 B24B49/16
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给
B24B37/00
研磨机床或装置；附件
B24B37/11
研具
B24B37/12
用于加工平面的研磨片
法律状态
2020-05-19 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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