半导体设备光刻胶旋转遮蔽罩部件洗净熔射保护治具
授权
摘要
本实用新型公开了一种半导体设备光刻胶旋转遮蔽罩部件洗净熔射保护治具，属于洗净熔射保护技术领域，包括底座，所述底座为一圆盘状结构，底座中部开设有定位通孔，所述定位通孔内连接有用于固定底部支撑杆的底部螺栓，所述定位通孔的形状与底部螺栓的形状相配合；所述底部支撑杆为一圆柱形结构，其与底座连接的一端开设有螺栓槽，所述底部螺栓同时连接于定位通孔和螺栓槽内；所述底部支撑杆另一端开设有保护杆插槽，所述保护杆插槽内连接有顶部保护杆；保护精度高，可重复利用且不会污染部品。
基本信息
专利标题 ：
半导体设备光刻胶旋转遮蔽罩部件洗净熔射保护治具
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920954936.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-06-24
授权号 ：
CN209785875U
授权日 ：
2019-12-13
发明人 ：
陈智慧贺贤汉李泓波张正伟王松朋朱光宇
申请人 ：
富乐德科技发展（大连）有限公司
申请人地址 ：
辽宁省大连市保税区海明路179-8号（环普国际产业园B04栋）
代理机构 ：
大连智高专利事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
盖小静
优先权 ：
CN201920954936.6
主分类号 ：
H01J37/32
IPC分类号 ：
H01J37/32
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的
H01J37/32
充气放电管
法律状态
2019-12-13 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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