本实用新型提供半导体设备光刻胶旋转遮蔽罩部件洗净熔射保护治具，涉及半导体领域。该半导体设备光刻胶旋转遮蔽罩部件洗净熔射保护治具，包括两组固定保护机罩，两组固定保护机罩的相对一端均开设有光刻工作槽孔，每组固定保护机罩远离对应的光刻工作槽孔的一端均固定安装有手动握柄，左端固定保护机罩的一端开设有定位固定卡槽，所述定位固定卡槽的上端开设有一号限位滑槽。该半导体设备光刻胶旋转遮蔽罩部件洗净熔射保护治具，代替了胶带对部品非熔射部分进行遮蔽保护的方式，尺寸稳定，耐高温不变形，可多次重复使用；提高了熔射保护精度，降低产品不良率，且对于被保护的部件表面不会留下残胶，污垢等副产物。