一种半导体设备同轴阳极环部件洗净溶射保护治具，包括内保护，所述内保护的内部开设有第一通孔，所述内保护靠近第一通孔的一侧固定连接有插入保护，所述插入保护的内部开设有第二通孔。该半导体设备同轴阳极环部件洗净溶射保护治具，使用时将待洗净熔射的部件平放，将本治具放于待洗净熔射的部件上，露出需要洗净熔射的区域，熔射后将本治具取下，洗净溶射遮蔽保护治具可以重复利用，达到可重复使用和节省人力及物料成本的目的，通过高精度加工制作，能够提供相对于人工胶带保护更高的溶射范围精度，可以代替人工用耐热胶带遮蔽部件的非溶射区域，达到定位准确和高精度的目的。