一种shutter plate装置部件溶射范围保护治具
授权
摘要
本实用新型公开了一种shutter plate装置部件溶射范围保护治具，属于溶射保护治具领域，包括盘体，所述盘体下侧外壁固定安装有固定圈，所述固定圈左右两侧内部固定安装有滑动槽，所述滑动槽内部转动安装有金属滚球，所述盘体左右两侧的固定圈中心内部固定安装有插槽，所述插槽内部活动有插杆。通过设置嵌入式转动结构、嵌入式固定结构和不锈钢材料，便于对保护治具的固定，提高了保护治具的实用性。
基本信息
专利标题 ：
一种shutter plate装置部件溶射范围保护治具
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020357734.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-03-20
授权号 ：
CN211788952U
授权日 ：
2020-10-27
发明人 ：
陆玉刚张正伟周毅
申请人 ：
安徽富乐德科技发展股份有限公司
申请人地址 ：
安徽省铜陵市金桥经济开发区
代理机构 ：
铜陵市天成专利事务所(普通合伙)
代理人 ：
李坤
优先权 ：
CN202020357734.6
主分类号 ：
H01L21/683
IPC分类号 ：
H01L21/683
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21/683
用于支承或夹紧的
法律状态
2020-10-27 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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