一种插片石英舟
授权
摘要
本实用新型公开了一种插片石英舟，包括上下对称设置的底板和顶板，所述底板和顶板之间固定有支撑柱一、支撑柱二、支撑柱三以及支撑柱四，所述支撑柱一、支撑柱二、支撑柱三以及支撑柱四下端分别固定在底板上端面四个角处，且支撑柱一、支撑柱二、支撑柱三以及支撑柱四上端分别固定在顶板下端面四个角处，所述支撑柱一、支撑柱二、支撑柱三以及支撑柱四外表面上均等距开设有多组插槽，所述插槽内安插有两组石英插片，两组所述石英插片紧密贴合，所述支撑柱一中部位置和支撑柱二中部位置固定把手一，所述支撑柱三中部位置和支撑柱四中部位置固定把手二，本实用新型单面镀膜质量好，结构稳定性好，石英插片贴合度好。
基本信息
专利标题 ：
一种插片石英舟
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920966500.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-06-26
授权号 ：
CN210237768U
授权日 ：
2020-04-03
发明人 ：
李丙科
申请人 ：
无锡松煜科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省无锡市新吴区硕放街道工业园区五期振发二路16号
代理机构 ：
北京联瑞联丰知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
黄冠华
优先权 ：
CN201920966500.9
主分类号 ：
C23C16/04
IPC分类号 ：
C23C16/04 C23C16/458
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/04
局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
法律状态
2020-04-03 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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