慢提拉装置及硅片清洗机
授权
摘要
本实用新型涉及一种慢提拉装置及硅片清洗机。慢提拉装置包括机台；平衡板，用以放置装有硅片的花篮；平衡板具有相对的第一侧边和第二侧边；升降机构，位于平衡板的下侧；升降机构可驱动平衡板升起并驱使平衡板的第一侧边高于平衡板的第二侧边；以及挡件，设于机台上，并位于平衡板的第一侧边的上升路径上的上方；挡件用以在平衡板的第一侧边上升至预设高度时，阻挡平衡板的第一侧边继续上升，使得升降机构可驱使平衡板的第二侧边上升。上述慢提拉装置，通过升降机构和挡件共同作用，即可实现花篮的放平操作。挡件的作用在于可在平衡板的第一侧边升高至预设高度时阻挡平衡板的第一侧边的上升即可，结构简单，即使得慢提拉装置结构简单。
基本信息
专利标题 ：
慢提拉装置及硅片清洗机
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921000915.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-06-28
授权号 ：
CN210110720U
授权日 ：
2020-02-21
发明人 ：
黎彬
申请人 ：
阜宁协鑫光伏科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省盐城市阜宁县经济开发区香港路888号
代理机构 ：
广州华进联合专利商标代理有限公司
代理人 ：
闫晓欣
优先权 ：
CN201921000915.7
主分类号 ：
H01L21/67
IPC分类号 ：
H01L21/67 H01L21/677
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2020-02-21 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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